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實驗室鍍膜機

簡要描述:實驗室鍍膜機具有外形美觀、結構緊湊、占地面積小、自動化程度高、操作簡單靈活、性能穩定、易維護的特點,尤其適用于實驗室高校使用,客戶可根據自身不同需求選配。

  • 產品型號:
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新日期:2025-04-28
  • 訪  問  量:1172
  實驗室鍍膜機采用磁控濺射及陰極電弧相結合的鍍膜技術,既滿足了對膜層致密性要求,又滿足了高離化率的要求;立式結構,工件卷繞系統垂直安裝在真空室內;多室門設計,陰極安裝在側門上,可裝六套陰極源或離子源,開門即可對靶進行維護或更換;設備可一次性進行工件表面處理及鍍制多層膜,實現多層膜沉積。適用多種金屬或化合物鍍膜材料。
 
  實驗室鍍膜機具有外形美觀、結構緊湊、占地面積小、自動化程度高、操作簡單靈活、性能穩定、易維護的特點,尤其適用于實驗室高校使用,客戶可根據自身不同需求選配。
 

 


實驗室鍍膜機技術參數:

制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

加熱方式

數字式功率調整器

鍍膜功能

0-9995段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

最大功率

1200W

最大輸出電壓電流

電壓≤12V  電流≤120A

真空度

機械泵 ≤5Pa5分鐘)   分子泵≤10^-3Pa

擋板類型

電控

真空腔室

不銹鋼腔體φ160mm x 160mm

樣品臺

可旋轉φ62  (最大可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8/分鐘

樣品蒸發源調節距離

70-140mm

蒸發溫度調節

1800

支持蒸發坩堝類型

鎢絲藍  帶坩堝鎢絲藍  鎢舟  碳繩  

預留真空接口

KF25抽氣口  KF16真空計接口  KF16放氣口 6mm卡套進氣口

可選配擴展

機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa  

數顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa

分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa

 
 

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